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采用高精密度膜厚度测定仪，以0.1人一1人/秒慢速度进行蒸汽沉积，就可能在垂直方向以原子水平合成可控制结构物质。特别对于不同成分的薄膜开关能以不到几十人厚度进行有规则堆积的多层化物质，从而能得到按人为规律设计的物质—人造晶格物质。人造晶格与半导体电子工业有着密切关系，曾利用分子束外延法等进行研究，十分活跃。采用真空蒸汽沉法也可制成人工晶格膜.
